一、单项选择题(本题共4小题，每小题7分，共28分，每小题只有一个选项符合题意)
1.(2012·济宁模拟)水平放置的金属框架cdef处于如图所示的匀强磁场中，金属棒ab处于粗糙的框架上且接触良好，从某时刻开始，磁感应强度均匀增大，金属棒ab始终保持静止，则( )
A.ab中电流增大，ab棒所受摩擦力增大
B.ab中电流不变，ab棒所受摩擦力不变
C.ab中电流不变，ab棒所受摩擦力增大
D.ab中电流增大，ab棒所受摩擦力不变
2.(2012·舟山模拟)如图所示，光滑的“”形金属导体框竖直放置，质量为m的金属棒MN与框架接触良好.磁感应强度分别为B1、B2的有界匀强磁场方向相反，但均垂直于框架平面，分别处于abcd和cdef区域.现从图示位置由静止释放金属棒MN，当金属棒刚进入磁场B1区域时，恰好做匀速运动.以下说法正确的是( )
A.若B2=B1，金属棒进入B2区域后将加速下滑
B.若B2=B1，金属棒进入B2区域后仍将保持匀速下滑
C.若B2＜B1，金属棒进入B2区域后仍将保持匀速下滑
D.若B2＞B1，金属棒进入B2区域后可能先匀减速后匀速下滑
